- 来图定制 -
MFC
MKS质量流量控制器（MFC）是用于精密测量与控制工艺气体流入半导体反应腔质量流量的关键设备。其主要功能是在薄膜沉积、等离子体刻蚀及离子注入等核心工艺中，确保气体流量的精确、稳定与可重复，直接决定工艺均匀性、良率及成本控制。
►技术原理：
采用热式原理，直接测量气体分子质量流量，测量结果不受环境温度与压力变化影响。建立毫秒级测量-比较-调整闭环。实时监测流量偏差并立即自动调整，确保流量始终稳定在设定值。
►核心价值：
►性能优势：
高精度：设定点精度高达±0.5%，最大限度减少工艺偏差与气体损耗，提升产品良率。
快响应：流量建立时间＜2秒，快速匹配先进工艺节拍，保障生产节奏不被拖慢。
高稳定性：专为全天候连续运行设计，降低意外停机风险，保障生产计划顺利执行。
强兼容性：单一设备适配超过50种工艺气体，减少备件种类，支持快速工艺转换。
►结构设计：
坚固传感器：特殊结构设计，抵抗振动与温度冲击，确保在各种工况下读数始终稳定。
精密控制阀：专利阀体结构，实现卓越的微流量控制与超长使用寿命，降低维护频率。
优化流道：无死角流道设计，加快气体置换速度，减少残留与污染风险。
智能接口：标准工业接口，无缝集成至现有主机系统，实现数据实时监控与工艺追溯。
►应用领域：
• 等离子体刻蚀设备
• 薄膜沉积设备（PVD/CVD/ALD等）
• 离子注入设备
• 快速热处理/扩散设备
• 干法清洗设备
