匀气盘_江苏鑫赫尔曼科技有限公司

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匀气盘

产品分类：半导体设备零部件加工

产品应用

反应腔室，气体均匀分布

产品工艺

精密钻孔/蚀刻，高纯度材料（硅、碳化硅、石英）

订购热线：18118873236

产品详情

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匀气盘

►核心价值：

良率提升：解决工艺波动难题，芯片整体良率提升1.5-3.5%。
性能一致性保障：确保阈值电压、电阻等关键参数集中分布，芯片性能稳定，降低测试分选成本。
总拥有成本降低：延长维护周期、减少工艺调试时间、节省气体消耗，真正实现降本增效。

►技术原理：

先稳压：进入稳压腔，消除高压冲击。再均流：通过多孔介质，将乱流化为平稳流。后垂直喷射：经微孔阵列垂直均匀覆盖晶圆，自由基与离子分布如毯。

►分层结构设计：

基材：高纯铝合金（轻量导热佳）或不锈钢（强度高），适配不同设备需求。
涂层性能：Y₂O₃涂层在Cl₂等离子中蚀刻速率比Al₂O₃低十倍，寿命更长。
热管理：材料与腔体同步热胀冷缩，杜绝变形导致的气流偏差。

►性能指标：

气流均匀性：300mm晶圆面流速不均匀性≤±3%，优于行业标准±5-8%。
工艺结果均匀性：支持薄膜厚度不均匀性<2%，刻蚀速率不均匀性<3%。
颗粒控制：自身产生>0.2μm添加颗粒<0.01颗/cm²。
温度均匀性贡献：协助晶圆表面温度不均匀性控制在±1.5°C以内。
寿命指标：强等离子体环境下，关键性能衰减<5%/1000工艺小时。

►应用领域：

• 化学气相沉积设备
• 原子层沉积设备
• 等离子体增强化学气相沉积设备
• 部分对均匀性要求极高的干法刻蚀设备

►经济效益分析：

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