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FRC
MKS FRC是专为半导体制造设计的高精度气体流量控制器。MKS FRC通过对每一秒流量的精确锁定，杜绝流量漂移，将不可控的工艺变量转化为稳定可控的输入。
►技术原理：
气体流经传感器时带走热量，流量与热量变化精准对应。控制器实时对比测量值与设定值，快速调节阀门，实现真实闭环控制。
►性能优势：
高精度：±0.5%的读数精度，±0.2%的重复性，确保每片晶圆工艺一致。
快响应：<1秒快速响应，满足复杂的工艺步骤要求。
广范围：单台设备覆盖的流量范围（量程比200:1）更宽，配置更灵活。
耐用可靠：针对腐蚀性气体优化，长期漂移极小，大幅减少维护。
►结构设计：
一体式流道设计，无残留死角，响应快且污染风险低。采用坚固材料和标准接口，安装维护简便。模块化设计使关键部件可快速更换，最大限度减少停机时间。
►主要应用领域：
• 等离子体刻蚀设备
• 薄膜沉积设备（PVD/CVD/ALD等）
• 离子注入设备
• 快速热处理/扩散设备
• 干法清洗设备
