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Baratron Guage
Baratron™ 是半导体行业测量工艺腔绝对压力的基准设备。它提供与气体种类无关的精确测量，直接保障刻蚀、沉积等关键工艺的重复性、均匀性与良率。
►产品技术原理：
测量基础：基于电容物理原理。工艺压力使金属隔离膜片产生形变，改变其与固定电极间的电容值，该变化与压力成正比。
关键优势：测量的是物理形变，因此输出为真实的绝对压力值，无需因气体不同（如Cl₂、C₄F₈）而进行校正。
►核心优势：
高精度：典型精度达±0.12%读数，而非满量程精度，在低压下优势显著。
卓越稳定性：长期漂移<0.15%/年，确保工艺窗口长期稳定，减少校准频率。
快速响应：电子单元响应可快至10毫秒，满足快速循环工艺要求。
耐腐蚀设计：采用Inconel®等特种合金膜片，可选加热功能（至200°C），有效应对腐蚀性与粘性工艺气体，防止沉积。
►产品结构设计：
坚固密封：全金属密封，氦泄漏率 < 2 x 10⁻¹⁰ atm cc/sec，确保超高真空完整性。
防污染配置：可选集成双挡板阀，便于维护隔离。
模块化兼容：传感器与电子单元分离，兼容多代控制器，便于集成与升级。
►关键性能对比：
►主要应用领域：
• 等离子体刻蚀设备
• 薄膜沉积设备（PVD/CVD/ALD等）
• 离子注入设备
• 快速热处理/扩散设备
• 干法清洗设备
