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APC/ALD Valve
APC/ALD Valve是用于半导体ALD（原子层沉积）及精密CVD工艺的气体流量控制阀。它通过毫秒级的气体通断控制，保障薄膜沉积的均匀性与重复性，直接影响芯片性能与生产良率。
►产品技术原理：
阀门接收设备电信号，驱动内部阀芯直线运动，实现流道的快速开启与密封关闭。其核心技术在于确保每次开关动作的速度、位置与密封性高度一致，从而精确控制每个工艺循环的气体剂量。
►核心优势（数据对比）：
►产品结构与设计：
驱动：采用直动式电磁驱动，结构简单，响应快。
密封：采用金属-陶瓷“硬密封”，耐高温、耐腐蚀，无老化放气问题。
流道与表面：优化流道设计减少残留；接触表面电解抛光至Ra<0.2µm，降低污染。
材料：阀体为316L不锈钢，可选配哈氏合金等材料以应对腐蚀性气体。
►主要应用领域：
• 等离子体刻蚀设备
• 薄膜沉积设备（PVD/CVD/ALD等）
• 离子注入设备
• 快速热处理/扩散设备
• 干法清洗设备
