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Plasma System

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    Plasma System

    等离子体系统通过电离气体产生离子、电子和活性基团。系统采用电感耦合(ICP)生成高密度等离子体,用于提升化学反应速率;采用电容耦合(CCP)控制离子能量,用于实现物理轰击的精确导向。通过独立调节两者,可对工艺进行精确控制。
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