腔体_江苏鑫赫尔曼科技有限公司

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腔体

产品分类：半导体设备零部件加工

产品应用

半导体制造，光电设备，核心反应腔

产品工艺

精密机加工，特种焊接，表面处理（等离子喷涂/钝化）

订购热线：18118873236

产品详情

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工艺腔体

►工艺腔体技术原理：

工艺腔体是半导体制造中的核心反应容器，其核心功能是构建并维持一个受控的物理化学环境。
真空环境建立：通过多级真空泵组，将内部压力从大气压降至10⁻⁶ Pa至10⁻⁹ Pa量级，消除空气分子干扰，为工艺提供纯净基底。
反应条件控制：作为集成平台，承载并协调气体输送、温度控制、等离子体激发及晶圆传输等子系统。
物理场均匀性保障：通过结构设计与控制算法，确保晶圆表面的气流、温度及能量密度分布高度均匀，这是实现一致工艺结果的基础。

►核心功能：

工艺腔体直接决定以下关键生产指标：
良率：腔体内壁的洁净度、材料纯度及密封性，是减少颗粒污染和缺陷产生的第一道防线。
均匀性与一致性：保证芯片性能参数在整片晶圆及不同批次间保持一致，是量产化的前提。
拥有成本：腔体的耐久性、维护频率和能耗水平，直接影响单晶圆制造成本。
工艺能力：先进的腔体设计是支持更小技术节点（如3nm）及新材料（如SiC）工艺开发与转移的物理基础。

►产品性能规格：

►产品结构设计：

►应用领域：

• 等离子体刻蚀设备
• 薄膜沉积设备（PVD/CVD/ALD等）
• 离子注入设备
• 快速热处理/扩散设备
• 干法清洗设备

►经济效益分析：

直接成本节省分析：

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