腔体内衬_江苏鑫赫尔曼科技有限公司

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腔体内衬

产品分类：半导体设备零部件加工

产品应用

晶圆工艺保护层，等离子环境直面件

产品工艺

高纯陶瓷/石英/硅加工，等离子喷涂涂层

订购热线：18118873236

产品详情

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腔体内衬

►产品技术原理：

材料科学创新：选用低溅射产额、高化学惰性的Y₂O₃等先进陶瓷，源头抑制颗粒产生与有害反应，深度融合材料科学、等离子体物理与热力学。
物理层面优化：调控介电常数9-15，功函数超4.5eV，优化等离子体均匀性，抑制异常放电。
污染控制技术：采用特殊工艺形成致密晶界封锁金属迁移，扩散系数＜10⁻¹⁴ cm²/s，调控表面能30-40 mJ/m²，平衡副产物附着与清除。
可靠性保障：确保CTE与腔体金属匹配度＞95%，承受热循环，避免热应力失效。

►核心功能价值：

金属污染阻隔：物理隔绝降低关键金属杂质迁移率99%，保障晶圆纯度。
颗粒缺陷控制：严于SEMI标准，减少随机缺陷，提升出厂颗粒度。
工艺一致性保证：热场流场优化，提高晶圆内均匀性15-30%，确保品质稳定。
维护周期优化：保护主腔体，延长无故障工作时间2-3倍，PM周期延至9-12个月。
设备利用率提升：减少非计划停机，设备综合利用率（OEE）提升5-8%，增强生产效率。

►应用领域：

• 等离子体刻蚀设备
• 薄膜沉积设备（PVD/CVD/ALD等）
• 离子注入设备
• 快速热处理/扩散设备
• 干法清洗设备

►产品功能指标：

颗粒释放率：≥0.1μm颗粒释放量比行业标准降低80%以上
耐热震性能：室温-450℃热循环500次无裂纹
表面粗糙度：Ra ≤ 0.2 μm，特殊应用可达到Ra ≤ 0.05 μm
尺寸稳定性：高温工作后尺寸变化≤ ±0.03 mm

鑫赫尔曼生产车间简图介绍

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